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合肥合瑞达光电材料有限公司
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对天然菱镁矿的加热得到氧-mgo,再将其加入到电弧炉中,加热到2800°c以上,会生长出氧-mgo晶体。主要性能参数 尺寸：10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm；厚度：0.5mm，1.0mm；抛光：单面或双面；晶向：<001>;±0.5o；晶面定向精度:±0.5°；边缘定向精度:2°特殊要求可达1°以内；斜切晶片：可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜倾斜角1°－45°的晶片；ra:≤5a5μm×5μm。
氧-mgo是极1好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片直径2英吋及，所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。
主要性能参数 尺寸：10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm；厚度：0.5mm，1.0mm；抛光：单面或双面；晶向：<001>;±0.5o；晶面定向精度:±0.5°；边缘定向精度:2°特殊要求可达1°以内；斜切晶片：可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜倾斜角1°－45°的晶片；ra:≤5a5μm×5μm。
氧-晶体属于氧-产品中的产品，科技含量高，附加值大。因此高氧-晶体产品的研制和生产，对开发我国特有的资源优势有着十分重要的意义。对天然菱镁矿的加热得到氧-mgo,再将其加入到电弧炉中,加热到2800°c以上,会生长出氧-mgo晶体。氧-mgo单晶是非常重要的基片材料和光学材料,在很多领域有重要的应用。
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